TSMC از فرایند N4P برای بهبود عملکرد و بهره‌وری انرژی لیتوگرافی ۵ نانومتری رونمایی کرد

گروه IT: شرکت TSMC از یک فرایند ۵ نانومتری جدید به نام N4P رونمایی کرده و همچنین مدعی شده بهبودهایی را نسبت به نود ۵ نانومتری قبلی از نظر عملکرد و بهره‌وری انرژی تجربه می‌کند. احتمالا اولین تراشه‌ها با این فرایند در نیمه دوم ۲۰۲۲ از راه می‌رسند.

به گزارش بولتن نیوز به نقل از دیجیاتو، فرایند جدیدی که از سوی TSMC معرفی شده، قدرت انتخاب مشتریان این کمپانی غول پیکر را افزایش می‌دهد و آن‌ها می‌توانند برای ساخت تراشه‌هایشان یکی از فرایندهای N3 ،N4 ،N4P و N5 را انتخاب کنند.

به گفته TSMC، فرایند N4P نسخه بهبودیافته N5 و N4 محسوب می‌شود. این کمپانی مدعی شده که این فرایند عملکرد را نسبت به N5 تا ۱۱ درصد و نسبت به N4 تا ۶ درصد بهبود می‌دهد. علاوه بر بهبود عملکرد، بهره‌وری انرژی هم تا ۲۲ درصد نسبت به N5‌ بهبود پیدا کرده و تراکم ترانزیستور هم ۶ درصد بیشتر شده است. TSMC همچنین گفته زمان تولید ویفرها و پیچیدگی‌های تولید هم با N4P کاهش می‌یابد.

معاون ارشد ریاست بخش توسعه تجارت TSMC، «کوین ژانگ» گفته فرایند N4P پلتفرم فناوری پیشرفته را برای موبایل و کامپیوترهای پرقدرت بهبود می‌دهد.

در تابستان TSMC اعلام کرد که تولید آزمایشی تراشه‌های ۴ را در فصل سوم ۲۰۲۱ و زودتر از انتظار آغاز می‌کند. علاوه بر این، باید منتظر شروع تولید انبوه چیپ‌های ۳ نانومتری در ماه‌های پایانی سال آینده میلادی باشیم.

این کمپانی همچنین می‌خواهد سال آینده تاسیسات مخصوص تولید تراشه‌های ۲ نانومتری تاسیس کند و در ادامه سال دومین تاسیسات را هم بسازد. TSMC امیدوار است از سال ۲۰۲۴ قادر به تولید تراشه‌های ۲ نانومتری باشد.

احتمالا در سال آینده میلادی در گوشی‌های پرچمدار مانند سری آیفون ۱۴ شاهد استفاده از تراشه‌های ۴ نانومتری باشیم. در حال حاضر چیپ A15 Bionic مورد استفاده در سری آیفون ۱۳ با لیتوگرافی ۵ نانومتری و فرایند N5P شرکت TSMC به تولید می‌رسند. علاوه بر نسل بعدی این تراشه، احتمالا دیمنسیتی ۲۰۰۰ هم با لیتوگرافی ۴ نانومتری ساخته می‌شود.